論文掲載:トポロジカル半金属YPtBiにおけるPtとBi組成の役割を解明

トポロジカル半金属YPtBiにおけるPtとBi組成の役割を解明した研究成果がJapanese Journal of Applied Physicsに掲載されました。本研究はウェスタンデジタル社との共同研究の成果です。

Sho Kagami, Ohiro Fujie, Daiki Ito, Quang Le, Brian York, Cherngye Hwang, Xiaoyong Liu, Son Le, Maki Maeda, Tuo Fan, Yu Tao, Hisashi Takano and Pham Nam Hai, “Role of Pt and Bi on the giant spin Hall effect in topological semimetal YPtBi”, Jpn. J. Appl. Phys. 64, 053001 (2025).

論文掲載:トポロジカル絶縁体BiSbの(012)高配向およびエピタキシャル膜における熱処理効果とスピンホール効果

トポロジカル絶縁体BiSbの(012)高配向およびエピタキシャル膜における熱処理効果とスピンホール効果に関する研究成果がJapanese Journal of Applied Physics誌に掲載されました。本研究はウェスタンデジタル社との共同研究成果です。

Quang Le, Brian R. York, Cherngye Hwang, Xiaoyong Liu, Lei Xu, Son Le, Maki Maeda, Tuo Fan, Yu Tao, Hisashi Takano, Min Liu, Zhang Ruixian, Shota Namba and Pham Nam Hai, “Thermal reliability and spin Hall angle of highly textured and epitaxial Bi0.9Sb0.1(012) topological insulator”, Jpn. J. Appl. Phys. 64, 043001 (2025).

国際学会IcAUMS2025で発表

Pham教授、博士課程のHu Yifan君、Liu Min君、加々美君、修士課程のLi君、OBのTuo Fan氏が沖縄で開催された国際学会IcAUMS2025で下記の発表を行いました。

[22aPS-3] Y. Hu, K. Sato, R. Zhang, K. Ishida, P. N. Hai, “Growth of Co thin Films with Low Roughness by ALD for 3D Magnetic Memory”.

[22aB-3] W. Li, H. Ho Hoang, S. Takahashi, Y. Hirayama, Y. Kato, P. N. Hai, “Growth of Highly Textured BiSb Topological Insulator on Si/SiOx substrates for Spin-Orbit Torque Devices Using TiOx/ MgO Buffer Layers”.

[22pC-3] M. Liu, R. Zhang, Q. Le, B. York, C. Hwang, X. Liu, M. Gribelyuk, X. Xu, S. Le, M. Maeda, F. Tuo, Y. Tao, H. Takano, P. N. Hai, “Spin Hall sensor using topological insulator”.

[22pB-9] S. Kagami, O. Fujie, D. Ito, Q. Le, B. York, C. Hwang, X. Liu, S. Le, M. Maeda, T. Fan, Y. Tao, H. Takano, P. N. Hai, “Role of Pt and Bi on the giant spin Hall effect in topological semimetal YPtBi”.

[22pB-10] F. Tuo, Q. Le, B. R. York, C. Hwang, X. Liu, M. A. Gribelyuk, S. Le, L. Xu, J. James, J. Ortega, M. Maeda, Y. Tao, H. Takano, M. Liu, R. Zhang, S. Namba, P. N. Hai, “Doped BiSbX Topological Insulator For Spin-Orbit Torque Devices”.

[22pB-12] P. N. Hai, K. Ishida, K. Sato, “Spin Hall effect in Platinum deposited by atomic layer deposition for 3D spin-orbit torque devices”.

R7年度の新しいメンバー

新B4の連尾君、藤江君(B2D)、顔君、東京電機大学から新M1の籠君、ホーチミン市教育大学から新M1のTrinh Dai Hoang Long君、北陸先端科学技術大学院大学から新D1のPham Van Thuan君が研究室に加えました。また、大枝君と伊藤君がM1に、加々美君がD1に進学しました。また、Ho Hoang Huyさんが助教に着任しました。皆さんの活躍を期待します。

R6年度卒業式と送別会

3月2 6日に、初春の桜が咲く晴天の中、R6年度の卒業式と送別会が行われました。B4の大枝君と伊藤君、M2の加々美君と齋藤君、D3のHuy君が無事に卒業しました。また、加々美君は優秀修士論文賞を受賞し、Huy君は電気電子系電気電子コースおよび超スマート社会卓越教育院の令和7年3月博士課程修了者の代表に選出されました。おめでとうございます!

2024年度の優秀修士論文賞を受賞!

加々美尚君の修士論文「異常ホール効果を用いた微細磁性細線における磁壁移動の電気的な評価」が2024年度の優秀修士論文賞を受賞しました。2025年3月26日の卒業式に表彰されました。おめでとうございます!

電気電子系電気電子コースおよび超スマート社会卓越教育院の令和7年3月博士課程修了者の代表に選出

D3のHo Hoang Huy君が電気電子系電気電子コースおよび超スマート社会卓越教育院の令和7年3月博士課程修了者の代表に選出されました。おめでとうございます!

論文掲載:トポロジカル絶縁体・磁性体界面のスピンホール効果向上メカニズムの解明

トポロジカル絶縁体・磁性体界面のスピンホール効果向上メカニズムを解明した研究成果がJournal of Applied Physics誌に掲載されました。本研究はウェスタンデジタル社との共同研究の成果です。

Quang Le, Xiaoyong Liu, Lei Xu, Brian R. York, Cherngye Hwang, Son Le, Maki Maeda, Tuo Fan, Yu Tao, Hisashi Takano, Min Liu, Zhang Ruixian, Shota Namba, and Pham Nam Hai, “Effects of metal, oxide, and hybrid metal-oxide interlayers on spin–orbit torque in BiSb topological insulator and magnetic interfaces”, J. Appl. Phys. 137, 123903 (2025)

2025年春季応用物理学会学術講演会で発表

東京理科大学野田キャンパスで開催された2025年春季応用物理学会学術講演会でPham教授、D3のZhang君とLiu君、M2の加々美君が下記の発表を行いました。

[14p-K302-1] High performance spin Hall sensing device using BiSb topological insulator
〇(D)MIN LIU, Ruixian Zhang, Quang Le, Brian York, Cherngye Hwang, Xiaoyong Liu, Michael Gribelyuk, Xiaoyu Xu, Son Le, Maki Maeda, Tuo Fan, Yu Tao, Hisashi Takano, Pham Nam Hai

[14p-K303-10] Spin Hall effect in Platinum deposited by atomic layer deposition for 3D magnetic race-track memory
〇Namhai Pham, Ishida Ken, Kota Sato

[15p-K303-1] Study of Metal, Oxide, and Hybrid Metal-Oxide Interlayers for optimizing Spin-Orbit torque in BiSb Topological Insulator and Magnetic Interfaces
〇(D)Ruixian Zhang, Quang Le, Xiaoyong Liu, Lei Xu, Brian R. York, Cherngye Hwang, Son Le, Maki Maeda, Fan Tuo, Hisashi Takano, Min Liu, Shota Namba, Pham Nam Hai

[17p-K102-10] Effect of Pt and Bi on the spin Hall angle in topological semimetal YPtBi
〇Sho Kagami, Ohiro Fujie, Daiki Ito, Quang Le, Brian York, Cherngye Hwang, Xiaoyong Liu, Son Le, Maki Maeda, Tuo Fan, Yu Tao, Hisashi Takano, Pham Nam Hai

国際学会発表:2025 Joint MMM-Intermag

国際学会2025 Joint MMM-Intermagにおいて、D3のHuy君が下記の発表を行いました。本発表は日本サムスン社との共同研究の成果です。

[VP23-10] Hoang Huy Ho, Wentao Li, Shigeki Takahashi, Yoshiyuki Hirayama, Yushi Kato, Hai Pham, “Large spin orbit torque induced by high temperature annealed BiSb topological insulator on oxidized Si substrates”

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