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研究設備

最先端の研究には億円単位の実験設備が欠かせません。このページにPham研の研究設備を紹介します。

トポロジカル絶縁体・垂直磁化膜の製膜用ANELVA社製分子線エピタキシャル結晶成長装置（６元）
III-V属強磁性半導体の結晶成長用Riber/Epiquest社製分子線エピタキシャル結晶成長装置（８元）
IV属半導体・磁性体接合製膜用のEiko社製分子線エピタキシャル結晶成長装置（5元）
トポロジカル材料・磁性材料の製膜用スパッター装置第1号機（７ターゲット）、ガス：Ar, Kr, Xe, N2
超多元製膜装置:トポロジカル絶縁体用スパッタ装置（8元）、磁気トンネル接合用スパッタ装置（8元）、トポロジカル絶縁体用MBE装置（8元）、超高真空トンネルチャンバー、導入室
電極製膜用電子ビーム蒸着装置（6元）
絶縁膜製膜用の原子層堆積装置(ALD)
イオンミーリン装置
マスクレス露光装置
原子間力顕微鏡
赤外磁気円二色性(MCD)分光装置
温度可変磁気電気伝導測定装置第１号機　(Heフロー型 4.2 K)
温度可変磁気電気伝導測定装置第2号機(GM冷凍機型 4.2 K、磁場回転可能)
温度可変磁気電気伝導測定装置第３号機(GM冷凍機 4.2 K、磁場回転可能)
高速磁気伝導測定装置
ワイヤボンダ
学生部屋