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CRESTプロジェクト採択決定
私たちの提案である「トポロジカル表面状態を用いるスピン軌道トルク磁気メモリの創製」が科学技術振興機構(JST)の戦略的創造研究推進事業のCREST研究領域「トポロジカル材料科学に基づく革新的機能を有する材料・デバイスの創出」に採択されました。
http://www.jst.go.jp/kisoken/crest/application/2018/180918/180918crest.pdf
⇒ 研究の概要はこちらをご覧ください
論文掲載:逆スピンバルブ効果の観測
D3のHiep君のナノSiバルブデバイスにおける逆スピンバルブ効果の観測に関する研究成果がJournal of Applied Physicsに掲載されました。
今回の論文はJAP学術誌のトップクラス論文としてFeatured Articleに選べられました。
さらに、米国物理協会(American Institute of Physics)のScience Highlightにも選べられ、解説記事が掲載されました。