人工知能に向けた不揮発性メモリ・スピントロニクスデバイスと材料
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国際学会SSDM2020(オンライン開催)に博士課程の脱凡君が下記の発表を行いました。
[K-10-04] Crystal Growth and Characterization of Topological Insulator BiSb Thin Films by Sputtering Deposition for SOT-MRAM Applications 〇Fan Tuo, Mustafa Tobah, Takanori Shirokura, Khang Nguyen, Nam Hai Pham
強磁性半導体(Ga,Fe)Sbにおいて、世界最高の…
トポロジカル半金属YPtBiにおけるPtとBi組成…
トポロジカル絶縁体BiSbの(012)高配向および…
Pham教授、博士課程のHu Yifan君、Liu…